今日，蘇大維格創業團體帶倆企業自行生產研發的激光束幾何體化直寫的設備MiScan200去往拉丁美洲交盤校正，創業團體依靠自己正規專業的技巧的能力及認真的運行看法是深受消費者淘寶差評。

此前向歐洲地區給予的MiScan皮秒二氧化碳激光圖片化直寫設施設備（8吋）免去了了麻煩的掩膜處理步奏,給予快捷,效率和低價格光刻直寫工藝的解決設計方案,特別的而言有光刻Mask非標設備標準量的用戶的數并不是,也可以diy制作應當的Mask大大減少價格或提升自己生產制造快慢標準量;本商品按照大額定效率半導體芯片皮秒二氧化碳激光燈光,長年限、低輸出效率;用戶的數進行操作表層友誼具備敏銳性高,可以各種各樣領土面積設計方案文件后綴;可基于工作中的處理標準量,方便快捷具備敏銳性高的所采用各種的投屏倍數和各種調制解調的方式滿足各種各樣模式，圖片光催化原理.萬能型MiScan商品（日均曝光過度過度0.5um區分率光刻,可以重復曝光過度過度）,可以幾噸對準激光套刻（0.35um-0.5um）套刻精準度和翹曲襯底（0-100毫米）圖片光刻,特別的符合MEMS集成電路芯片、額定效率集成電路芯片和微波射頻集成電路芯片等厚膠套刻。 除此以外，指向光電子、柔性fpc線路板光電子和新建筑材料研究方向,蘇大維格具備從4" -70"的紫外線微納3D光刻直寫克服計劃和中低端史詩裝備,涉及到認可灰度光刻（微納3D形貌）、微納混合型喂養光刻（特征英文設計90nm或更小）和大占地面積微納多邊形直寫（速度光刻）。