技術特點
- Microlab是專門為基礎研究而設計的多功能直寫光刻系統，配置405nm長壽命光源，能夠在多種近紫外光刻膠制備幾乎任何需要的微結構，應用例如實驗型掩模版、微流控芯片、二維材料電極、微光學、MEMS等，選配355nm紫外光源，適用于SU-8等特殊光刻膠工藝，選配位相干涉、偏振調控模塊，可應用于衍射光學器件等研究制備。
- Microlab可支持4~6英寸寫入幅面，支持最小5mm尺寸的小基片，支持GDSII,STL,BMP等文件格式，進行2D、3D形貌微結構制備，支持多文件合并創建光刻任務，無人值守一次完成。具備掃描式、步進式、定點寫入等多種光刻模式，能夠為特殊器件研發提供定制化解決方案。
規格參數
* 大概指標因加工工藝的差異有所作為不盡相同
應用示例
