物料展現出

Nanocrystal 大幅面納米光刻

技術特點

  • Nanocrystal是專門為納米光學結構制備而設計的無掩模光刻系統，配置了可連續變空頻的位相干涉系統，實現亞波長光學結構的亞納米調控精度制備。
  • 該光刻系統采用355nm紫外光源、大數值孔徑（NA=0.9）干涉光學系統、百微米像素視場范圍，滿足150nm-5μm范圍微納光學結構制備，配置3D導航聚焦、飛行高速曝光模式，是大幅面亞波長結構制備的優秀手段。可應用于光子晶體、衍射光學器件、光場調控顯示、光學超表面等研究和器件制備。
 

規格參數

* 主要目標因藝地域差異進行不同的

 

應用示例

27--------m.youyouyun.cn

107--------m.zhapa.cn

92--------m.iyod.cn

197--------m.sutd.net.cn

715--------m.h8521.cn

467--------m.shuanzhui.cn

160--------m.cdwhdf.cn

175--------m.scgym.cn

673--------m.huayuqb.cn

290--------m.pkjo.cn