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光伏投影掃描光刻系統 HJT-lithography systems

技術特點

 
  • 針對異質結電池片銅柵線工藝的圖形化需求，專門設計了一款投影掃描光刻系統，具有快速光刻、分辨率好、大焦深的特點，采用405nm光纖激光光源，非常適合在光伏專用感光油墨上進行曝光，實現高品質的槽型結構。配置了CCD識別基片糾偏系統，實現30μm對準精度。
  • 該投影掃描光刻模式，采用較低成本的普通掩模版作為圖形輸入，且具有曝光均勻性與一致性好、工藝窗口大、對基片厚度誤差適應性高、便于與前后道設備組線的優點，是光伏圖形化的理想解決方案。
 

規格參數

* 按照質量指標因新工藝不一致性有一些·區別

  通過cnc精密機械加工基片，負光刻膠的光刻結果顯示

  主要采用光伏發電鍍銅基片，光線傳感器噴墨墨水的光刻最后

 

27--------m.youyouyun.cn

107--------m.zhapa.cn

92--------m.iyod.cn

197--------m.sutd.net.cn

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